Очищаюча маска з екстрактом полину - маска для обличчя з дією, що очищає. Ця властивість обумовлена наявністю бентоніту у складі, який додатково зменшує виділення себуму та матує шкіру. Екстракт полину відновлює та живить епідерміс. Формула містить численні зволожуючі компоненти: бетаїн , гіалуронову кислоту та бета-глюкан . Маска заспокоює та знімає роздратування, стимулює регенерацію та пом'якшує шкіру. Активні компоненти:
екстракт полину - живить та відновлює,
бентоніт - має очищувальну дію, регулює виділення шкірного сала,
бетаїн - зв'язує воду в епідермісі, підтримує зволоження, заспокоює подразнення та прискорює регенерацію епідермісу,
гіалуронова кислота - зменшує надмірну втрату води з епідермісу, захищає та підтримує регенерацію, додатково пом'якшує, тонізує та розгладжує шкіру,
бета-глюкан – покращує еластичність епідермісу, зменшує подразнення, підтримує функціонування ліпідного бар'єру шкіри.
Дія означає:
зволожує,
зменшує секрецію себуму,
очищує,
заспокоює.
Виробник рекомендує засіб для таких типів шкіри та косметичних дефектів:
всі типи шкіри.
Спосіб використання: Лопаткою, що входить у комплект, набрати засіб, рівномірно розподілити по шкірі обличчя, уникаючи зони навколо очей та губ. Залишити на 15 хвилин і змити водою.